• Ссылка на видеозапись вебинара:
    Ссылка для скачивания презентации

    Доклад: Анализ изменений состава и морфологии поверхности вольфрама при воздействии плазмы тлеющего разряда и плазменного фокуса в среде дейтерия методами ВИМС (SIMS), ИСП (ICP) и ЭДА (EDS)
    Докладчик: Савватимова Ирина Борисовна, НИЯУ МИФИ

    Аннотация доклада

    Приведены результаты экспериментов воздействия потоков дейтериевой плазмы на установке плазменного фокуса (ПФ) ПФМ72-м на вольфрам и плазмы тлеющего разряда в среде дейтерия. Проведено сравнение результатов, полученных методами ВИМС (SIMS), ИСП (ICP) и ЭДА (EDS).
    При анализе обнаружено увеличение концентрации легких элементов с массой менее массы матричного материала образца W (Li, Na, K, Ca, Mg) в экранированной и периферийной областях образцов монокристаллического и поликристаллического вольфрама от 5 до 100 крат для различных элементов по сравнению с центральной областью, подвергнутой воздействию плазменного фокуса.
    Причём, в периферийной и экранированной областях анализируемых образцов, удалённых от оси плазменного фокуса, регистрируются до миллионов импульсов (ионов) по сравнению с тысячами в центральной области ПФ.
    То есть, более существенное увеличение концентрации более «лёгких» изотопов наблюдается в областях, удалённых от оси установки, где их распыление и «выброс» ударной плазменной волной меньше или не происходит совсем, и где энергия частиц составляет от единиц до десятков электронвольт и могут происходить различные ядерно-химические реакции.

    Опубликовано

← Старые Новые →